隨著材料科學、地質學、高分子化學及纖維學的發展,研究者們對顯微成像設備提出了越來越高的要求。特別是在研究晶體、礦物、聚合物等具有各向異性與雙折射特性的樣品時,偏光顯微鏡成為不可或缺的實驗工具。奧林巴斯(Olympus)長期以來在光學顯微鏡領域處于全球領先地位,其 BX53-P 倒置偏光顯微鏡 正是為滿足這一領域的需求而推出的高端研究級產品。
該機型繼承了奧林巴斯 BX 系列的優秀傳統,融合了 UIS2 無限遠光學系統、模塊化設計理念和高性能偏光附件,既保證了成像的清晰度與準確性,也為實驗室用戶提供了靈活的擴展和舒適的人機交互體驗。BX53-P 不僅在學術研究中廣受青睞,也廣泛應用于材料檢測、教育培訓和質量控制等多個領域。
BX53-P 采用奧林巴斯獨有的 UIS2 無限遠光學系統。該系統具有以下優勢:
色彩還原度高:在偏光條件下能夠真實再現樣品的天然色彩。
清晰度與對比度出色:即使在高放大倍率下,圖像仍保持銳利細致。
擴展性強:無限遠光學設計可兼容多種附件與對比技術,確保未來升級與功能拓展的可能性。
BX53-P 配備專門的 無應力物鏡(UPLFLN-P 系列),其鏡片在制造過程中經過特殊處理,最大程度地減少內部應力,從而避免因應力而產生的偽影與誤差。這對于偏光顯微觀察尤為關鍵,可顯著提升光學測量的精確度。
在偏光顯微鏡中,偏振器與檢偏器的質量直接決定了成像效果。BX53-P 使用高滅光比偏振元件,能實現幾乎完全的消光效果,提供極高的對比度,從而更清晰地呈現雙折射材料的光學性質。
BX53-P 可搭載多種補償器,例如全波片(λ)、1/4 波片(λ/4)、石膏板、云母板、Senarmont 補償器和 Brace-Koehler 補償器。它們可以覆蓋從 0 到 20λ 的光程差范圍,并可直接讀數,方便研究人員進行定量測量。
借助這些補償器,研究人員能夠精確測量晶體的光學性質,例如折射率差、光程差、光軸方向等。同時,該系統還可用于高分子材料和纖維結構的取向分析,幫助科研人員揭示材料的微觀結構與宏觀性能之間的關系。
對于具有雙折射效應的樣品,BX53-P 能夠在交叉偏光下展現出鮮明的干涉色彩,這不僅便于定性分析,也為教學和展示提供了極佳的視覺效果。
BX53-P 采用模塊化設計,用戶可根據需要靈活配置。除偏光觀察外,還可擴展相差、明場、熒光、DIC(微分干涉)等觀察方式,使其在科研與教學中的適用范圍更廣。
該顯微鏡可與 BX3 系列的照明系統、數碼攝像頭接口及圖像分析軟件無縫結合,輕松實現從樣品觀察到數據采集、分析與存檔的完整流程。
BX53 顯微鏡主體
高亮度 LED 照明系統
U-AN360P 檢偏器滑塊
三點調心旋轉載物臺
補償器適配器與多種波片
無應力偏光物鏡(4×、10×、20×、40×)
三目鏡筒,支持顯微攝影與實時圖像輸出
BX53-P 使用高亮度 True Color LED 光源,色溫穩定、接近自然光,能準確還原樣品色彩。其光源壽命遠超傳統鹵素燈,同時維護簡便,適合教學與科研的高頻使用。
顯微鏡配備三點調心的旋轉載物臺,刻度清晰,可鎖定旋轉角度,便于樣品的精確定位。偏振器和檢偏器均可精細旋轉和刻度化操作,確保定量實驗的高重復性。
BX53-P 的操作界面符合人體工程學原理,控制旋鈕布局合理,適合長時間觀察。光強調節、對焦旋鈕等設計均考慮到單手操作的便利性,大大降低了研究人員的操作負擔。
BX53-P 廣泛應用于礦物薄片觀察與晶體結構分析。研究者可以利用偏光成像分析礦物的光性特征,從而進行巖石分類和成分研究。
在聚合物與纖維的研究中,BX53-P 可用于觀察分子鏈取向、應力分布及結晶行為,為材料的性能優化提供理論支持。
對于復合材料、陶瓷、金屬材料等,偏光顯微鏡能夠揭示其內部結構特征,幫助進行缺陷檢測、質量評估與新材料研發。
由于其直觀的成像效果和模塊化擴展能力,BX53-P 也非常適合于高等院校和科研機構的教學使用,既能展示理論知識,也能開展實驗操作訓練。
光學性能卓越:UIS2 光學系統與無應力物鏡保證了成像質量。
偏光功能完備:多種補償器與偏振附件滿足不同實驗需求。
擴展性強:兼容多種對比方法,模塊化配置靈活。
照明先進:高亮度 LED 光源壽命長、色彩真實。
操作人性化:人體工學設計提升長期使用的舒適性。
應用廣泛:從地質、材料到高分子研究,覆蓋科研與教學全領域。
奧林巴斯 BX53-P 倒置偏光顯微鏡是一款集 高精度光學性能、完備的偏光功能、模塊化設計與優異人機工程學 于一體的研究級顯微鏡。它不僅為科研人員提供了強有力的工具,也為實驗教學、材料檢測和工業應用帶來了高效可靠的解決方案。
在未來的科學探索中,隨著對新材料和復雜結構研究需求的不斷增長,BX53-P 必將繼續發揮其在偏光顯微學領域的核心作用,成為推動材料科學與工程技術進步的重要助力。
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